[发明专利]一种西瓜移栽后追肥方法

摘要

本发明涉及一种西瓜移栽后追肥方法，具体为以下步骤（1）移栽前瓜苗断水降温处理；（2）移栽土壤处理；（3）移栽后浇水处理。经过实验，使用本发明提供的一种西瓜移栽后追肥方法，在瓜苗移栽后为其提供充足的养分，同时不会引起烧根等问题影响瓜苗生长，大大提高了西瓜的亩产，西瓜的平均亩产由现有技术的3850kg提高至4100kg以上，有效提高了种植户的经济收入。

主权项

一种西瓜移栽后追肥方法，其特征在于，具体为以下步骤：（1）移栽前瓜苗断水降温处理瓜苗移栽前1周，将环境温度降低至15‑20℃，搭棚庇荫，庇荫度70‑80%；瓜苗移栽前2‑3天，停止浇水，每日早中晚三次在瓜苗茎叶处喷水，保持瓜苗茎叶湿润即可；（2）移栽土壤处理将移栽土壤施足底肥后，挖种植穴，种植穴深度10‑15cm，种植穴直径8‑10cm，然后在种植穴底部均匀填放一层速效肥，然后再在速效肥上平铺一层1‑1.5cm厚的细沙，最后在细沙上铺一层活性炭即可；（3）移栽后浇水处理瓜苗移栽至种植穴后，使用土壤填埋，压实，然后使用清水灌根，之后每天早晚正常浇水即可，同时移栽后一周内每日夜间增加2‑4小时光照，光照强度800‑1000lx。