[发明专利]化学气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法在审
| 申请号: | 201710889409.7 | 申请日: | 2017-09-27 |
| 公开(公告)号: | CN109554687A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
| 发明(设计)人: | 王文;银波;范协诚;夏高强;薛明华;朱文博;夏进京 | 申请(专利权)人: | 新特能源股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/40 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗建民;邓伯英 |
| 地址: | 830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐国*** | 国省代码: | 新疆;65 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种化学气相沉积炉,包括炉体,还包括炉体内设置的:加热腔室,用于加热原料反应生成产物并使得产物升华;沉积腔室,与加热腔室密封连接,且与加热腔室连通,沉积腔室内设置有可转动的沉积盘,沉积腔室还包括对沉积盘冷却的冷却单元,沉积盘用于沉积产物,沉积腔室开设有沉积腔室开口,通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛。本发明中的化学气相沉积炉中的沉积盘可旋转,从而使得沉积盘上沉积的产物均匀分布,提高了沉积产物的一致性,产物具有较高的质量稳定性,满足工业化生产需求。 | ||
| 搜索关键词: | 沉积腔室 沉积盘 化学气相沉积炉 加热腔室 沉积产物 沉积腔 室内 反应生成产物 质量稳定性 加热原料 开口调节 冷却单元 密封连接 氧化亚硅 可旋转 可转动 炉体 沉积 连通 冷却 开口 体内 升华 生产 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积炉,包括炉体,其特征在于,还包括炉体内设置的:加热腔室,用于加热原料反应生成产物并使得产物升华;沉积腔室,与加热腔室密封连接,且与加热腔室连通,沉积腔室内设置有可转动的沉积盘,沉积腔室还包括对沉积盘冷却的冷却单元,沉积盘用于沉积产物,沉积腔室开设有沉积腔室开口,通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新特能源股份有限公司,未经新特能源股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710889409.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种常压多层CVD反应器
- 下一篇:等离子处理装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





