[发明专利]一种过渡金属核壳结构薄膜电催化剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710809664.6 申请日: 2017-09-11
公开(公告)号: CN107579257B 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 文懋;邵洪洋;张侃;郑伟涛;任萍 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: H01M4/86 分类号: H01M4/86;H01M4/88;H01M4/90;H01M8/1011
代理公司: 22201 长春吉大专利代理有限责任公司 代理人: 王恩远
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明的一种过渡金属核壳结构薄膜电催化剂及其制备方法属于催化剂材料制备领域。以金属纳米粒子为核,氮掺杂的洋葱状石墨为壳,由核壳结构的纳米粒子在衬底上形成的薄膜的厚度是200~1200nm。采用磁控溅射小角沉积技术,以金属靶作为金属纳米粒子源,石墨靶及甲烷气体作为碳源,氮气作为氮源气体,同时通入氩气作为溅射气体,实现金属催化碳石墨化生长并原位自组装形成氮掺杂洋葱状石墨包裹金属纳米粒子薄膜。本发明具有工艺简单、成本低、重复性高、产率高、可大批量工业生产等优点;在制备过程无副产物,制备的样品展现出优于商业Pt/C催化剂的稳定性及耐甲醇性。
搜索关键词: 一种 过渡 金属 结构 薄膜 催化剂 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种过渡金属核壳结构薄膜电催化剂的制备方法,其特征在于,以过渡金属纳米粒子为核,氮掺杂的洋葱状石墨为壳,核的粒径为5~35nm,壳的层数为2~10层,由核壳结构的纳米粒子在衬底上形成的薄膜的厚度是200~1200nm;采用磁控溅射小角沉积技术,以过渡金属靶作为过渡金属纳米粒子源,石墨靶及甲烷气体作为碳源,氮气作为氮源气体,同时通入氩气作为溅射气体,实现过渡金属催化碳石墨化生长并原位自组装形成氮掺杂洋葱状石墨包裹过渡金属纳米粒子薄膜;具体步骤为:/n步骤1:对衬底进行清洗,烘干备用;/n步骤2:将清洗、烘干后的衬底放入磁控溅射装置的真空腔体中,将过渡金属靶和石墨靶安装在磁控溅射装置的靶位上,调节沉积倾斜角至45°以下,对腔体抽真空至9×10
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