[发明专利]微影方法在审
| 申请号： | 201710758207.9 | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN108983546A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 刘朕与;张雅晴;吴承翰;张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;王芝艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 提供一种微影图案化的方法，包括：形成光阻层于基板上，以及对光阻层进行曝光制程。光阻层包含聚合物主链、键结至聚合物主链的酸活性基团、键结至聚合物主链的敏化剂、光酸产生剂、与热碱产生剂。上述方法亦包括在第一温度下烘烤光阻层，接着在第二温度下烘烤光阻层。第二温度高于第一温度。上述方法亦包括在显影剂中显影光阻层，以形成图案化的光阻层。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻层 聚合物主链 烘烤 键结 光酸产生剂 热碱产生剂 微影图案化 曝光制程 敏化剂 酸活性 图案化 显影剂 基板 微影 显影 阻层 | ||
【主权项】：
1.一种微影图案化的方法，包括：形成一光阻层于一基板上，其中该光阻层包含一聚合物主链、键结至该聚合物主链的一酸活性基团、键结至该聚合物主链的一敏化剂、一光酸产生剂、与一热碱产生剂；对该光阻层进行一曝光制程；在一第一温度下烘烤该光阻层，接着在一第二温度下烘烤该光阻层，其中该第二温度高于该第一温度；以及在一显影剂中显影该光阻层，以形成一图案化的光阻层。
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