[发明专利]用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统及方法

摘要

本发明公开了一种用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统，在扫描干涉场曝光系统的正面及背面分别引入长行程、高精度衍射光栅位移测量系统，所述光栅位移测量系统均包括：双频激光器、光阑、读数头，所述双频激光器、光阑、读数头分别固定在激光器固定板的正反面相同位置，所述激光器固定板固定在大理石平台的底端，所述光阑通过控制系统自动控制双频激光器的出射光是否进入读数头，所述读数头集成了光学元件和接收器。本发明是一种解决测量行程增大导致激光干涉仪受环境影响更为敏感而造成测量精度下降的测量系统和方法，降低环境控制成本，提高光栅衍射波前质量。

主权项

1.一种用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统，其特征在于，在扫描干涉场曝光系统的正面及背面分别引入长行程、高精度衍射的光栅位移测量系统；所述精密光栅位移测量系统包括：两个双频激光器、两个光阑、两个读数头，所述双频激光器分别固定在激光器固定板的正反面的相同位置处，所述激光器固定板固定在所述扫描干涉场曝光系统的大理石平台的底端；其中一个所述光阑和一个所述读数头固定在所述扫描干涉场曝光系统的前端光学系统固定板的正面，另一个所述光阑和另一个所述读数头对应固定在所述前端光学系统固定板的反面；所述扫描干涉场曝光系统的工作台上设置有两条测量光栅；在进行光栅位移测量时，所述工作台沿Y轴做扫描运动，沿X轴做步进运动，当所述工作台沿Y轴完成扫描运动并开始做步进运动时，至少一个读数头下方对准测量光栅；通过控制系统打开对应读数头的光阑，与该读数头对应面的双频激光器的出射光会进入该读数头，形成两束测量光束，以通过所述测量光束对工作台的步进位移进行测量。