[发明专利]一种三维结构陶瓷电容器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710707116.2 申请日: 2017-08-17
公开(公告)号: CN107516599B 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 杨俊锋;丁明建;李杰成;庄彤;冯毅龙 申请(专利权)人: 广州天极电子科技有限公司
主分类号: H01G4/12 分类号: H01G4/12;H01G13/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王戈
地址: 510000 广东省广州市海珠区大干*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种三维结构陶瓷电容器的制备方法及电容器。所述方法包括以下步骤:将半导体陶瓷粉末流延膜通过热压成型为生坯片;在所述生坯片上冲出通孔;把未冲孔的所述生坯片和冲孔后的所述生坯片叠放在一起,分别通过热压和静水压形成成型坯片;将所述成型坯片放入还原气氛中烧结,得到半导化陶瓷片;对所述半导化陶瓷片进行表面氧化;将表面氧化后所述半导化陶瓷片未冲孔的一面研磨,去除表面氧化绝缘层;对研磨后的所述半导化陶瓷片两面进行金属化,得到三维结构表面层型半导体陶瓷电容器。采用本发明的方法或电容器,可以极大地增大电容器容量。
搜索关键词: 一种 三维 结构 陶瓷 电容器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种三维结构陶瓷电容器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将半导体陶瓷粉末流延膜热压成型为生坯片;所述半导体陶瓷粉末包括钛酸钡、钛酸锶或者二氧化钛半导体陶瓷电容器瓷料;在所述生坯片上冲出通孔;把未冲孔的所述生坯片和冲孔后的所述生坯片叠放在一起,通过热压和静水压形成成型坯片;将所述成型坯片放入还原气氛中烧结,得到半导化陶瓷片;对所述半导化陶瓷片进行表面氧化;将表面氧化后所述半导化陶瓷片未冲孔的一面研磨,去除表面氧化绝缘层;对研磨后的所述半导化陶瓷片两面进行金属化,得到三维结构表面层型半导体陶瓷电容器。
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