[发明专利]钕铁硼永磁材料表面等离子喷涂陶瓷层及其制备方法有效
| 申请号： | 201710705659.0 | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN107254656B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 徐晋勇;赵钦浩;唐焱;罗奕;张应红;张斌;孙宁;高鹏;陈金龙;高成;高波;王岩;莫愁;黄伟;莫荣;胡清钟 | 申请（专利权）人： | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C4/134 | 分类号： | C23C4/134;C23C4/11;C23C4/08;H01F41/02 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 石燕妮 |
| 地址： | 541004 广*** | 国省代码： | 广西;45 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种能够避免钕铁硼永磁材料表面的防护层内部发生起泡，以及防护层剥落等失效现象的钕铁硼永磁材料表面等离子喷涂陶瓷层及其制备方法。该钕铁硼永磁材料表面等离子喷涂陶瓷层，包括钕铁硼机体、Al |
||
| 搜索关键词： | 钕铁硼 永磁 材料 表面 等离子 喷涂 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
钕铁硼永磁材料表面等离子喷涂陶瓷层，其特征在于：包括钕铁硼基体(1)以及在钕铁硼机体(1)表面采用等离子喷涂技术制备Al2O3‑TiO2复合陶瓷涂层(3)；所述Al2O3‑TiO2复合陶瓷涂层(3)与钕铁硼基体(1)之间设置有Ni‑Al合金层过渡层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林电子科技大学，未经桂林电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710705659.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
