[发明专利]制造抗张元件的方法有效
| 申请号： | 201710696722.9 | 申请日： | 2014-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN107618200B | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 达尼埃尔·L·泰勒;詹姆斯·C·梅施特 | 申请（专利权）人： | 耐克创新有限合伙公司 |
| 主分类号： | B29D35/00 | 分类号： | B29D35/00;B29D35/12;B29D35/14;B29C65/72;B29C65/18;B29C65/62;D05B15/04;A43B13/20;A43B21/28;B32B27/08;B32B37/00;B32B37/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏金霞;王艳江 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制造抗张元件的方法，该方法包括：将间隔结构定位在第一材料层与第二材料层之间，间隔结构具有由多个间隙间隔开的多个支承部分；以及用至少一条股线经穿过所述间隙进行缝合以将第一材料层接合至第二材料层从而由第一材料层、第二材料层以及股线形成抗张元件，抗张元件具有股线的在第一材料层与第二材料层之间延伸的多个段。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 元件 方法 | ||
【主权项】：
一种制造抗张元件的方法，所述方法包括：将间隔结构定位在第一材料层与第二材料层之间，所述间隔结构具有由多个间隙间隔开的多个支承部分；以及用至少一条股线穿过所述间隙进行缝合以将所述第一材料层接合至所述第二材料层从而由所述第一材料层、所述第二材料层以及所述股线形成所述抗张元件，所述抗张元件具有所述股线的在所述第一材料层与所述第二材料层之间延伸的多个段。
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