[发明专利]光学元件超声刻蚀装置有效
申请号: | 201710691293.6 | 申请日: | 2017-08-14 |
公开(公告)号: | CN107481959B | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 叶卉;姜晨;汪中厚 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根;王晶 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种光学元件超声刻蚀装置,刻蚀液存贮箱通过输液导管与刻蚀液循环槽相连,刻蚀液循环槽和刻蚀反应槽由隔板隔开,刻蚀液循环槽与刻蚀反应槽之间通过两根循环导管相连,且循环导管上均设有微型循环泵;刻蚀反应槽底部安有超声波发生器;温度传感器置于刻蚀反应槽内并与溶液接触,温度传感器连接微控制器,微控制器输出端分别连接第一电机和第二电机,两个电机分别控制各自的微型循环泵的运行;多功能夹具置于刻蚀反应槽中上部,多功能夹具侧面通过夹具导向条与刻蚀反应槽内隔板的内隔板导向槽配合连接。该装置结构简单、操作方便,确保超声刻蚀过程中溶液温度的恒定和溶液的密封性,可有效提升光学元件超声刻蚀实验的稳定性和安全性。 | ||
搜索关键词: | 光学 元件 超声 刻蚀 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光学元件超声刻蚀装置,包括刻蚀液存贮箱(1)、刻蚀液循环槽(2)、刻蚀反应槽(3)、输液导管(6)、输液开关(7)、支架(8)、底座(9)、控制键盘(10)、温度显示器(11)、微控制器(12)、隔板(13)、微型循环泵(18)、超声波发生器(19)、温度传感器(20)、第一电机(21)、第二电机(22)、多功能夹具(25)以及存储在刻蚀液存贮箱(1)、刻蚀液循环槽(2)和刻蚀反应槽(3)内的刻蚀溶液(4),其特征在于:所述刻蚀液存贮箱(1)通过输液导管(6)与刻蚀液循环槽(2)相连,输液导管(6)上设有输液开关(7);控制键盘(10)、温度显示器(11)和微控制器(12)均安装在支架(8)上,支架(8)设于底座(9)上,刻蚀液循环槽(2)和刻蚀反应槽(3)置于支架(8)正下方且呈左右放置,刻蚀液循环槽(2)和刻蚀反应槽(3)之间由隔板(13)隔开,隔板(13)底部设有一个连通口(14),连通口(14)由槽外安置的连通开关(15)控制其开闭状态;刻蚀液循环槽(2)与刻蚀反应槽(3)之间由两根循环导管(16)相连,且循环导管(16)上均设有微型循环泵(18);刻蚀反应槽(3)底部安有超声波发生器(19),超声波发生器(19)与控制键盘(10)连接;温度传感器(20)置于刻蚀反应槽(3)内并与刻蚀溶液(4)接触,温度显示器(11)与温度传感器(20)电连接,温度传感器(20)信号输出端连接微控制器(12)信号输入端,微控制器(12)输出端分别连接第一电机(21)和第二电机(22),第一电机(21)和第二电机(22)分别控制各自的微型循环泵(18)的运行;刻蚀反应槽(3)底部设有排液导管(23),排液导管(23)中部设有排液开关(24);刻蚀反应槽(3)中上部四面设有刻蚀反应槽内隔板(26),刻蚀反应槽内隔板(26)上设有竖直方向的内隔板导向槽(27);所述多功能夹具(25)置于刻蚀反应槽(3)中上部,多功能夹具(25)侧面通过夹具导向条(25‑4)与刻蚀反应槽内隔板(26)的内隔板导向槽(27)配合连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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