[发明专利]制作黑硅及黑硅表面钝化层的方法

摘要

本发明公开了一种制作黑硅及黑硅表面钝化层的方法，该方法先在工艺片上制作出黑硅，然后通过低温工艺在黑硅表面制作出钝化层；本发明的有益技术效果是：提出了一种制作黑硅及黑硅表面钝化层的方法，该方法可以在低温条件下使黑硅表面钝化，从而避免高温工艺所存在的各种问题，有效提高黑硅的品质。

主权项

1.一种制作黑硅及黑硅表面钝化层的方法，包括硅材质的工艺片；其特征在于：所述方法包括：1)将工艺片浸入第一溶液中，待黑硅形成后，将工艺片从第一溶液中取出；所述第一溶液为硝酸铜、过氧化氢和氢氟酸的混合溶液；工艺片浸泡过程中，采用水浴加热方式，将第一溶液的温度控制在25～40℃；2)用氢氟酸溶液对黑硅进行腐蚀，待黑硅表面的自然氧化层被腐蚀掉后，将工艺片清洗干净；3)将工艺片浸入第二溶液中，待黑硅表面形成致密的铜膜后，将工艺片从第二溶液中取出，然后用去离子水将工艺片清洗干净，然后对工艺片进行脱水处理；所述第二溶液为硝酸铜和氢氟酸的混合溶液；4)在氮气氛围中对工艺片进行加热，加热温度为200℃，加热时间为1小时，加热过程中，黑硅表面有铜硅生成；加热结束后，使工艺片暴露在常温空气中，黑硅表面就会生长出二氧化硅钝化层，二氧化硅钝化层厚度满足要求后，将工艺片浸入硝酸溶液中，将工艺片上残留的铜去除干净，然后将工艺片从硝酸溶液中取出，然后用去离子水将工艺片清洗干净，然后对工艺片进行脱水处理，操作完成。