[发明专利]一种晶体生长装置及其组装方法有效

专利信息
申请号: 201710565407.2 申请日: 2017-07-12
公开(公告)号: CN107354503B 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 吴晨 申请(专利权)人: 吴晨
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/48
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 张函;王春伟
地址: 100022 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供了一种晶体生长装置及其组装方法,包括:内层装置、钼箔、钽层装置、外层装置;内层装置位于钽层装置内,钽层装置位于外层装置内,钼箔衬于钽层装置与内层装置之间。本申请晶体生长装置能够长时间耐受高温、高压条件,在使用熔体生长法生成晶体时,可以利用本申请晶体生长装置生成所需条件比较苛刻的晶体。
搜索关键词: 晶体生长装置 钽层 内层装置 外层装置 钼箔 组装 熔体生长法 高压条件 条件比较 耐受 申请
【主权项】:
1.一种晶体生长装置,其特征在于,包括:内层装置、钼箔、钽层装置、外层装置;其中,所述内层装置包括:内层装置体、内层装置盖,所述内层装置盖置于所述内层装置体上;所述钽层装置包括:钽管、钽层装置盖、钽层装置体,其中所述钽管焊接于所述钽层装置盖上;所述钽管用于向所述钽层装置内充入惰性气体,所述钽层装置盖焊接于所述钽层装置体上;所述外层装置包括:外层装置体、外层装置盖,其中所述外层装置盖置于所述外层装置体上;所述外层装置由金属钼制成;所述内层装置位于所述钽层装置内,所述钽层装置位于所述外层装置内,所述钼箔衬于所述钽层装置与所述内层装置之间,所述钼箔厚度为0.05‑0.5mm;所述内层装置由石墨制成。
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