[发明专利]铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 201710479974.6 | 申请日： | 2014-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN107227463B | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 金世训;李恩庆;李宝妍;申孝燮 | 申请（专利权）人： | 易安爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有 |
| 地址： | 韩国首尔市江南区奉恩*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，包括同时具有醇基和胺基的化合物的蚀刻稳定剂。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程，蚀刻液内金属离子的含量较高时，可维持蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等蚀刻特性，应用在TFT‑LCD显示器，OLED电极制造等上。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，对于组合物的总重量，包含：10至30％重量的过氧化氢，0.5至3％重量的蚀刻抑制剂，0.5至3％重量的螯合剂，0.1至1％重量的蚀刻添加剂，0.01至2％重量的氟化物，0.01至0.2％重量的蚀刻稳定剂及余量的水且使全部组合物的总重量为100％重量；所述螯合剂是同时具备氨基和羧酸基的化合物，所述蚀刻稳定剂是同时具有醇基和胺基的化合物，所述同时具有醇基和胺基的化合物选自由甲醇胺、乙醇胺、丙醇胺、丁醇胺、二乙醇胺、三乙胺、二甲基乙醇胺、N‑甲基乙醇胺及其混合构成的群，所述氟化物是离解出F‑或HF2‑离子的化合物。
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