[发明专利]一种改善PECVD镀膜膜色的方法有效
申请号: | 201710479890.2 | 申请日: | 2017-06-22 |
公开(公告)号: | CN107267963B | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 刘文国;顾峰;苏世杰;张玉前 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(合肥)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/34 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 张玺 |
地址: | 230088 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及晶体硅电池片表面减反膜制作技术领域,具体为一种改善PECVD镀膜膜色的方法,将石墨舟清洗好后进行两次饱和,包括以下步骤:步骤1:先把石墨舟拆开,然后在两片舟片的定位柱卡点对应位置装上陶瓷粒,最后把石墨舟组装好,进行第一次饱和;步骤2:把石墨舟两侧的螺丝拧松,晃动舟页把定位柱卡点处的陶瓷粒取出来,拧紧石墨舟两侧的螺丝并校准,然后进行第二次饱和;第一次饱和完成后,待石墨舟冷却后,再进行第二次饱和。本发明既保证了石墨舟的饱和度,又尽可能少的在定位柱卡点上沉积氮化硅,使定位柱卡点与硅片之间的导电性、导热性受到的影响相对较少,从而使氮化硅膜沉积更均匀,减轻镀膜的色差。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 pecvd 镀膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种改善PECVD镀膜膜色的方法,其特征在于,将石墨舟清洗好后进行两次饱和,包括以下步骤:步骤1:对石墨舟舟片的定位柱卡点进行保护,然后进行第一次饱和;步骤1的具体步骤如下:先把石墨舟拆开,然后在两片舟片的定位柱卡点对应位置装上陶瓷粒,最后把石墨舟组装好,进行第一次饱和;步骤2:将步骤1中定位柱卡点的保护物取出,然后进行第二次饱和;步骤2的具体步骤如下:把石墨舟两侧的螺丝拧松,晃动舟页把定位柱卡点处的陶瓷粒取出来,拧紧石墨舟两侧的螺丝并校准,然后进行第二次饱和。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的