[发明专利]一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料及制备方法

摘要

一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料及制备方法，属于光学镀膜材料技术领域。低折射率光学镀膜材料是由氟化镁和添加物氟化钙、氟化钡或氟化锶组成，低折射率光学镀膜材料的配方按重量比进行配比、混合，经造粒，低折射率光学镀膜材料重量配方如下：氟化镁80～99.5，添加的氟化物总量0.5～20；在800℃以上进行3～6小时烧结。本发明镀膜材料在光学元件上沉积的过程中，由于氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶等同时蒸发并沉积在光学表面，因氟化钙、氟化钡、氟化锶分子的作用，阻止了原来单一氟化镁沉积过程中定向生长的情况，形成更均匀应力小的光学膜层，由于应力的减小，在镀多层膜时，保证多层膜的稳定，解决多层膜的膜裂问题。

主权项

1.一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料的制备方法，低折射率光学镀膜材料是由氟化镁和添加物氟化钙、氟化钡或氟化锶组成，其特征在于含有以下步骤；低折射率光学镀膜材料的配方按重量比进行配比、混合，经造粒，低折射率光学镀膜材料重量配方如下：氟化镁             80～99.5，添加的氟化物总量   0.5～20；在800℃以上进行3～6小时烧结；在1300℃以上进行真空熔化3～6小时；进行镀膜：镀膜条件，镀膜机直径1100mm，材料在镀膜时的蒸发速度为10A°/S，基板玻璃温度200℃。