[发明专利]基于机械刻划与金属催化刻蚀的硅微/纳结构制备方法在审
| 申请号： | 201710450186.4 | 申请日： | 2017-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN107265398A | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 蒋淑兰;王丰;钱林茂;武韩强;余丙军 | 申请（专利权）人： | 西南交通大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)51227 | 代理人： | 周永宏 |
| 地址： | 610031 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于机械刻划与金属催化刻蚀的硅微/纳结构制备方法，该方法包括以下步骤S1、硅片预处理将硅片表面清洗干净后烘干得到样品A；S2、集成贵金属纳米薄膜在样品A表面沉积一层粘附层后，再在其表面集成贵金属纳米薄膜，获得样品B；S3、机械刻划贵金属纳米薄膜采用机械刻划在样品B的表面上进行刻划，以除去刻划部分的贵金属纳米薄膜，获得在任意需要位置、具有设定形状图案的样品C；S4、制备硅微/纳结构将样品C放入氢氟酸和过氧化氢的混合溶液中，对其进行刻蚀，即可获得具有高深宽比的硅微/纳结构。总体而言，该制备方法具有成本低、操作简单和可定位加工的优点，有望规模化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 机械 刻划 金属 催化 刻蚀 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种基于机械刻划与金属催化刻蚀的硅微纳结构制备方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：S1、硅片预处理：将硅片表面清洗干净后烘干获得样品A；S2、集成贵金属纳米薄膜：在样品A的表面上沉积一层粘附层后，再在其表面集成贵金属纳米薄膜，获得样品B；S3：机械刻划贵金属纳米薄膜：采用机械刻划在样品B的表面上进行刻划加工，以除去刻划部分的贵金属纳米薄膜，在任意需要位置可获得表面具有设定形状图案的样品C；S4、制备硅微/纳结构：将样品C放入氢氟酸和过氧化氢的混合溶液中，对其进行刻蚀，即可获得具有高深宽比的硅微纳结构。
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