[发明专利]一种用于KDP晶体的含水有机清洗液

摘要

本发明公开了一种用于KDP晶体的含水有机清洗液。该清洗液包括去离子水、有机溶剂和表面活性剂。本发明的用于KDP晶体的含水有机清洗液，利用KDP易溶于水这一理化特性，在清洗液中加入去离子水作为该清洗液的活性物质，通过控制清洗液中水的存在形式、含量来控制其与KDP元件表面的作用效率，能达到去除其表面污染物而不损害表面质量的目的。本发明的用于KDP晶体的含水有机清洗液性质稳定，采用去离子水作为活性成分不会在KDP晶体表面产生新的杂质；通过可控的潮解作用，能有效去除磁流变抛光加工后表面残留的基液和固体颗粒，提高KDP晶体的表面质量。

主权项

一种用于KDP晶体的含水有机清洗液，其特征在于：所述的清洗液包括去离子水、有机溶剂和表面活性剂，各组分的质量百分比含量为：去离子水                               1%~15%；有机溶剂                               82%~98%；表面活性剂                             1%~3%。