[发明专利]一种噻吩‑吡咯‑噻吩衍生物及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201710403183.5 申请日: 2017-06-01
公开(公告)号: CN107118205A 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 张诚;戴玉玉;李维军;闫拴马;曲星星;陈澜 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C07D409/14 分类号: C07D409/14;C25B3/00;C09K9/02
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司33201 代理人: 黄美娟,王兵
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种如式(I)所示的噻吩‑吡咯‑噻吩衍生物及其制备方法,以及作为单体在电化学聚合制备电致变色材料薄膜中的应用;本发明以较高的产率(30%~50%)合成了一类噻吩‑吡咯‑噻吩衍生物,用本发明噻吩‑吡咯‑噻吩衍生物作为单体经电化学聚合制得的薄膜表现出快速的响应速度,合理的光学对比度,良好的电化学稳定性,在电致变色领域有潜在的应用价值,同时这类材料可能表现出一些微孔性质,同样在超级电容器和气体吸附领域有应用前景;
搜索关键词: 一种 噻吩 吡咯 衍生物 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种如式(I)所示的噻吩‑吡咯‑噻吩衍生物:式(I)中,n=1、2或3。
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