[发明专利]双氧水体系抛光液以及在该双氧水体系抛光液中抛光THGEM膜的方法有效
| 申请号： | 201710380485.5 | 申请日： | 2017-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN107267993B | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 刘宏邦;刘倩;赵子喻;封焕波;董洋;梁恩维;郑阳恒 | 申请（专利权）人： | 广西大学;中国科学院大学;北京新立机械有限责任公司 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 530004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双氧水体系抛光液以及在双氧水体系中抛光THGEM膜的方法，其中，该双氧水体系抛光液的配方如下：硫酸40‑55g、双氧水350‑400g、硝酸10‑15g、尿素2‑3g、柠檬酸1‑2g、聚乙二醇0.05‑0.2g、水补足1L；该抛光方法步骤如下：将装挂好的THGEM膜依次进行除锈、水洗、恒温抛光、脱膜、钝化、超声清洗、吹干。本发明的有益之处在于：(1)抛光液成分简单，原料易得，容易配比；(2)操作容易，反应用的水不需要是去离子水，并且不需要过高温度，最佳工艺条件为45℃；(3)处理时间短，最佳条件下只需要180s；(4)抛光效果好，毛刺去除效果佳，表面更平整，光亮度更高；(5)污染小，对人体无伤害；(6)抛光后的膜耐压高，在氮气环境下可达到1200V。 | ||
| 搜索关键词： | 双氧水 体系 抛光 以及 thgem 方法 | ||
【主权项】：
在双氧水体系抛光液中抛光THGEM膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：Step1：配制抛光液抛光液的配方如下：Step2：抛光去毛刺将装挂好的THGEM膜进行除锈和水洗，之后将THGEM膜放入45℃的恒温抛光液中进行抛光，至咖啡色，紧接着，依次进行脱膜处理50s、钝化处理90s，再放入超声机分别用清水和无水乙醇超声5min，最后用气枪吹干THGEM膜。
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