[发明专利]具有一体式黑色矩阵与光阻间隔物的液晶面板的制作方法及光罩

摘要

本发明提供一种具有一体式黑色矩阵与光阻间隔物的液晶面板的制作方法及光罩。该方法利用负性光阻层受光照能量不同而发生不同程度交联反应的特性和粘流特性，使用包括第一完全透光区(11)、第二完全透光区(13)、第一完全遮光区(15)、部分透光区(17)、以及第二完全遮光区(19)的光罩(1)来对负性光阻层(5)进行曝光，再经显影、烘烤制程制作出液晶面板中的一体式黑色矩阵与光阻间隔物，其中副光阻间隔物(53)的膜厚小于主光阻间隔物(51)膜厚且大于黑色矩阵的挡墙(57)膜厚，能够减少光罩数量，节省一道黄光制程，降低生产成本，减少生产时间，并使得主光阻间隔物(51)与副光阻间隔物(53)的断差稳定，提高液晶面板产品的良率。

主权项

1.一种具有一体式黑色矩阵与光阻间隔物的液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1、提供基板(3)，在所述基板(3)上涂布负性光阻层(5)；步骤S2、提供光罩(1)；所述光罩(1)包括第一完全透光区(11)、与所述第一完全透光区(11)间隔设置的第二完全透光区(13)、环绕在所述第二完全透光区(13)外围的第一完全遮光区(15)、包围所述第一完全透光区(11)与第一完全遮光区(15)的部分透光区(17)、以及与所述部分透光区(17)的边缘相连接的第二完全遮光区(19)；步骤S3、使用所述光罩(1)对负性光阻层(5)进行曝光；步骤S4、对曝光后的负性光阻层(5)进行显影；被所述第一完全透光区(11)所曝光的负性光阻层(5)经显影后保持膜厚不变，形成主光阻间隔物(51)；被所述第二完全透光区(13)所曝光的负性光阻层(5)经显影后保持膜厚不变，形成与主光阻间隔物(51)膜厚相等的光阻柱体(53’)；被所述第一完全遮光区(15)所曝光的负性光阻层(5)经显影后被完全侵蚀而形成环绕所述光阻柱体(53’)的空槽(55’)；被所述部分透光区(17)所曝光的负性光阻层(5)经显影后被部分侵蚀，形成膜厚小于主光阻间隔物(51)膜厚的黑色矩阵的挡墙(57)；被所述第二完全遮光区(19)所曝光的负性光阻层(5)经显影后被完全侵蚀形成被所述黑色矩阵的挡墙(57)所界定出的空白区(59)；步骤S5、进行烘烤制程，控制烘烤温度超过负性光阻的玻璃化温度，使得所述光阻柱体(53’)转变为粘流态并向所述空槽(55’)内填充，从而使得所述光阻柱体(53’)的膜厚降低，形成膜厚小于主光阻间隔物(51)膜厚且大于黑色矩阵的挡墙(57)膜厚的副光阻间隔物(53)。