[发明专利]制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法有效
申请号: | 201710365617.7 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN107403874B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 茆胜 | 申请(专利权)人: | 茆胜 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 王少虹;许国兴 |
地址: | 广东省深圳市福田区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法,包括掩膜版,所述掩膜版上设有对应显示器上显示区的遮挡部、对应显示器上阴极环的镂空部,所述遮挡部位于所述掩膜版的中部,所述镂空部环绕在所述遮挡部的外围。本发明的制备阴极环防反射膜用的掩膜,利于在阴极环上设置防反射膜,具有不影响器件光电性能、工艺匹配程度高、遮挡效果好、工艺兼容性高,工艺优化快速简便等优点,解决了显示器的阴极环亮边问题。本发明适用于各种型号显示器的阴极环防反射膜的制备遮挡。 | ||
搜索关键词: | 制备 阴极 反射 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种制备阴极环防反射膜用的掩膜,其特征在于,包括掩膜版,所述掩膜版上设有对应显示器(1)上显示区(3)的遮挡部(10)、对应显示器(1)上阴极环(2)的镂空部(20),所述遮挡部(10)位于所述掩膜版的中部,所述镂空部(20)环绕在所述遮挡部(10)的外围。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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