[发明专利]制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法有效

专利信息
申请号: 201710365617.7 申请日: 2017-05-22
公开(公告)号: CN107403874B 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 茆胜 申请(专利权)人: 茆胜
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 代理人: 王少虹;许国兴
地址: 广东省深圳市福田区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 制备 阴极 反射 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种制备阴极环防反射膜用的掩膜,其特征在于,包括掩膜版,所述掩膜版为合金板;所述掩膜版上设有对应显示器(1)上显示区(3)的遮挡部(10)、对应显示器(1)上阴极环(2)的镂空部(20),所述遮挡部(10)位于所述掩膜版的中部,所述镂空部(20)环绕在所述遮挡部(10)的外围;

位于所述镂空部(20)外围的掩膜版部分形成所述掩膜版的外圈部(30);所述掩膜版上还设有加强筋(40);所述加强筋(40)穿过所述镂空部(20)连接在所述遮挡部(10)和外圈部(30)之间;所述加强筋(40)的宽度为阴极环宽度的50%-500%;

所述遮挡部(10)的形状为矩形,所述镂空部(20)包括四个环绕在所述遮挡部(10)侧边的镂空区(21),所述加强筋(40)位于相邻的所述镂空区(21)之间并连接在所述遮挡部(10)的对角处;每一所述镂空区(21)的两端不伸出其相邻的两个所述镂空区(21)相背的一侧,且所述镂空区(21)的位于所述加强筋(40)两侧的端部均为尖头结构;所述掩膜版上还设有至少一个垫高部(50);所述垫高部(50)位于所述外圈部(30)上,用于将掩膜版撑高在阴极环(2)上,利用PVD成膜的阴影扩散作用,增大防反射膜图案在所述加强筋(40)遮挡处的扩散区域,使得防反射膜在被所述加强筋(40)遮挡的区域处相互扩散重叠;

所述掩膜版制作时:

在合金板上旋涂光刻胶,并将掩模版图案光刻在合金板上;掩模版图案包括对应遮挡部(10)的遮挡区、对应外圈部(30)的边缘区以及对应加强筋(40)的连接区,连接区连接在遮挡区和边缘区之间;

用干法或湿法刻蚀将合金板上没有光刻胶的部分刻穿,刻穿部分形成镂空部(20),制得掩模版。

2.根据权利要求1所述的掩膜,其特征在于,所述镂空部(20)的宽度为阴极环(2)宽度的50%-500%。

3.根据权利要求1所述的掩膜,其特征在于,每一所述镂空区(21)呈一字形。

4.一种权利要求1-3任一项所述的掩膜的使用方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、将掩膜版放置在显示器(1)上;其中,所述掩膜版的遮挡部(10)遮挡在显示器(1)的显示区(3)上,镂空部(20)对应在显示器(1)的阴极环(2)处;

S2、将防反射膜材料透过所述镂空部(20)沉积在所述阴极环(2)上,形成厚度为1000Å的防反射膜(4)。

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