[发明专利]制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法有效
申请号: | 201710365617.7 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN107403874B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 茆胜 | 申请(专利权)人: | 茆胜 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 王少虹;许国兴 |
地址: | 广东省深圳市福田区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 阴极 反射 及其 使用方法 | ||
本发明公开了一种制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法,包括掩膜版,所述掩膜版上设有对应显示器上显示区的遮挡部、对应显示器上阴极环的镂空部,所述遮挡部位于所述掩膜版的中部,所述镂空部环绕在所述遮挡部的外围。本发明的制备阴极环防反射膜用的掩膜,利于在阴极环上设置防反射膜,具有不影响器件光电性能、工艺匹配程度高、遮挡效果好、工艺兼容性高,工艺优化快速简便等优点,解决了显示器的阴极环亮边问题。本发明适用于各种型号显示器的阴极环防反射膜的制备遮挡。
技术领域
本发明涉及一种用于阴极环的掩膜,尤其涉及一种制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法。
背景技术
在OLED微型显示器的生产和制备过程中,一般采用顶发射式发光器件结构,其阳极为保证较高的反射率通常采用厚金属层制备,而阴极环与阳极一体制备成型,因此也有着较高的反射率。
然而,与阳极一体制备成型的阴极环由于也具有较高的反射率,导致在器件使用时会看到显示区边界的亮边(即高反射阴极环),影响显示效果。
因此,为了提高显示效果,有必要设计一种掩膜达到前述目的。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,提供一种利于防反射膜的设置,解决阴极环亮边问题的制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种制备阴极环防反射膜用的掩膜,包括掩膜版,所述掩膜版上设有对应显示器上显示区的遮挡部、对应显示器上阴极环的镂空部,所述遮挡部位于所述掩膜版的中部,所述镂空部环绕在所述遮挡部的外围。
优选地,所述镂空部的宽度为阴极环宽度的50%-500%。
优选地,位于所述镂空部外围的掩膜版部分形成所述掩膜版的外圈部;所述垫高部设置在所述外圈部上。
优选地,所述掩膜版上还设有加强筋;所述加强筋穿过所述镂空部连接在所述遮挡部和外圈部之间。
优选地,所述加强筋的宽度为阴极环宽度的50%-500%。
优选地,所述遮挡部的形状为矩形;所述加强筋连接在所述遮挡部的对角处。
优选地,所述镂空部包括四个环绕在所述遮挡部侧边的镂空区;所述加强筋位于相邻的所述镂空区之间。
优选地,每一所述镂空区呈一字形。
优选地,所述掩膜版上还设有至少一个垫高部;所述垫高部位于所述外圈部上。
本发明还提供一种上述掩膜的使用方法,包括以下步骤:
S1、将掩膜版放置在显示器上;其中,所述掩膜版的遮挡部遮挡在显示器的显示区上,镂空部对应在显示器的阴极环处;
S2、将防反射膜材料透过所述镂空部沉积在所述阴极环上。
本发明的制备阴极环防反射膜用的掩膜,利于在阴极环上设置防反射膜,具有不影响器件光电性能、工艺匹配程度高、遮挡效果好、工艺兼容性高,工艺优化快速简便等优点,解决了显示器的阴极环亮边问题。本发明适用于各种型号显示器的阴极环防反射膜的制备遮挡。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:
图1是本发明一实施例的制备阴极环防反射膜用的掩膜的结构示意图;
图2是图1所示掩膜配合在显示器上的结构示意图;
图3是使用本发明掩膜版设置阴极环防反射膜后的显示器结构示意图。
具体实施方式
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择