[发明专利]用于修复掩模的方法在审
| 申请号： | 201710358246.X | 申请日： | 2017-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN107463065A | 公开（公告）日： | 2017-12-12 |
| 发明（设计）人： | 游信胜;严涛南;王文娟;秦圣基 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/72 | 分类号： | G03F1/72 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人： | 章社杲,李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供了一种修复掩模的方法，包括检查掩模以定位掩模的缺陷的缺陷区域。获取缺陷区域的空中影像的相位分布。确定成像系统的点扩散函数。基于缺陷区域的空中影像的相位分布和点扩散函数来确认掩模的一个或多个修复区域。对掩模的一个或多个修复区域执行修复工艺以形成一个或多个修复部件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 修复 方法 | ||
【主权项】：
一种修复掩模的方法，所述方法包括：检查掩模以定位所述掩模的缺陷的缺陷区域；在成像系统中获取所述缺陷区域的空中影像的相位分布；确定所述成像系统的点扩散函数；基于所述缺陷区域的空中影像的相位分布和所述点扩散函数来确认所述掩模的一个或多个修复区域；以及对所述掩模的一个或多个修复区域执行修复工艺以形成一个或多个修复部件。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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