[发明专利]X射线分析的操作指导系统、操作指导方法及存储介质有效
申请号: | 201710349100.9 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN107402223B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 姬田章宏 | 申请(专利权)人: | 株式会社理学 |
主分类号: | G01N23/00 | 分类号: | G01N23/00 |
代理公司: | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人: | 刘昕 |
地址: | 日本国东京都昭*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够使用户容易理解所选择的X射线光学系统的测定的X射线分析的操作指导系统、操作指导方法以及操作指导程序。所述X射线分析的操作指导系统具有:测定信息取得单元,其取得试样的信息和多个X射线测定光学系统部件各自的信息;试样放大倍率取得单元,其取得放大试样进行显示的放大倍率;入射X射线形状变形单元,其确定在与光轴方向垂直的平面上按照放大倍率放大入射X射线的形状的入射X射线的变形形状;散射X射线形状变形单元,其确定在与光轴方向垂直的平面上按照放大倍率放大散射X射线的形状的散射X射线的变形形状;以及X射线测定光学系统建模单元,其对按照放大倍率放大试样的形状的试样的变形形状、入射X射线的变形形状以及散射X射线的变形形状进行建模。 | ||
搜索关键词: | 射线 分析 操作 指导 系统 方法 存储 介质 | ||
【主权项】:
一种X射线分析的操作指导系统,其特征在于,具有:测定信息取得单元,其取得试样的信息和对所述试样进行X射线分析的多个X射线测定光学系统部件各自的信息;试样放大倍率取得单元,其取得对所述试样进行放大显示的放大倍率;入射X射线形状变形单元,其确定在使用所述多个X射线测定光学系统部件对所述试样进行测定时入射X射线的变形形状;散射X射线形状变形单元,其确定在使用所述多个X射线测定光学系统部件对所述试样进行测定时散射X射线的变形形状;以及X射线测定光学系统建模单元,其对按照所述放大倍率放大所述试样形状的所述试样的变形形状、所述入射X射线的变形形状以及所述散射X射线的变形形状进行建模,其中,所述入射X射线的变形形状是在与照射所述试样的入射X射线的入射光轴方向垂直的平面上,将所述入射X射线的形状按照所述放大倍率放大的形状,所述散射X射线的变形形状是在与由所述试样产生并被检测的散射X射线的散射光轴方向垂直的平面上,将所述散射X射线的形状按照所述放大倍率放大的形状。
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