[发明专利]一种基于单轴加载的二级增压装置有效

专利信息
申请号: 201710341551.8 申请日: 2017-05-16
公开(公告)号: CN107144586B 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 贺端威;刘方明 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: G01N23/20008 分类号: G01N23/20008
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610065 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提了用于原位中子衍射实验的一种基于单轴加载式的二级增压装置,包括砧面相对的两个一级压砧,位于两个一级压砧砧面之间的封垫,在所述封垫内位于两个一级压砧相对砧面的部分打孔作为一级压腔,一级压腔内设有二级增压环,二级增压环的外壁与一级压腔的内壁相契合,其外径小于或等于一级压腔的内径,在二级增压环的上下开口分别设直径与二级增压环内径相等或略小的二级增压片,二级增压环和二级增压片围成的空间成为装放样品的二级样品腔,实验装样后两个二级增压片都分或全部嵌于二级增压环中,解决了打在封垫上的样品腔因为样品的横向挤压而扩大的问题,还解决了在原位中子衍射实验过程中样品随着压力增加而变薄的问题。
搜索关键词: 一种 基于 加载 二级 增压 装置
【主权项】:
1.一种基于单轴加载的二级增压装置,包括:砧面相对的两个一级压砧,位于两个一级压砧砧面之间的封垫,在所述封垫内位于两个一级压砧相对砧面的部分打孔作为一级压腔,其特征在于:在所述一级压腔内设有外径小于或等于一级压腔内径的二级增压环,在所述二级增压环的上下开口分别设直径与二级增压环内径相等或略小的二级增压片,所述二级增压环和二级增压片围成装放样品的二级样品腔,装样加压后两个二级增压片的部分或全部嵌于二级增压环中。
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