[发明专利]一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201710307426.5 | 申请日： | 2017-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN107142449B | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 李恺;吴卫东;罗炳池;罗江山;张吉强;谭秀兰;李文琦;金雷;何玉丹 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/16;C23C14/24;B24B1/00 |
| 代理公司： | 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙) 51235 | 代理人： | 邓昉 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法，依次包括以下步骤：在铜块体表面加工出高精度的台阶；精细研磨铜台阶端面粗糙度至纳米量级；在铜台阶端面蒸发沉积铝薄膜；在铝薄膜表面沉积铍薄膜；采用NaOH溶液反应去除铝薄膜衬底，得到高精度极小尺寸自支撑铍薄膜；本发明极大提高了极小尺寸自支撑铍薄膜的尺寸精度，精度可达1μm；并且所得的自支撑铍薄膜表面光滑，无砂眼，形状规则，质量优良。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 极小 尺寸 支撑 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法，其特征在于，依次包括以下步骤： (a) 在铜块体表面加工出高精度的台阶；(b) 精细研磨铜台阶端面粗糙度至纳米量级；(c) 在铜台阶端面蒸发沉积铝薄膜；(d) 在铝薄膜表面沉积铍薄膜；(e) 采用NaOH溶液反应去除铝薄膜衬底，得到高精度极小尺寸自支撑铍薄膜。
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