[发明专利]二氧化硅纳米腔阵列电极作为离子通道的应用在审
申请号: | 201710272486.8 | 申请日: | 2017-04-24 |
公开(公告)号: | CN107195521A | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | 卢小泉;姬玲霞;何静;王晶;陈海咏;姚敏;汪天胜;魏红娟;陕多亮 | 申请(专利权)人: | 西北师范大学 |
主分类号: | H01J37/26 | 分类号: | H01J37/26;H01J37/04;B82Y15/00 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司11249 | 代理人: | 钟国 |
地址: | 730070 甘肃*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明公开了二氧化硅纳米腔阵列电极作为离子通道的应用,该二氧化硅纳米腔阵列电极由ITO导电玻璃以及孔道垂直于ITO导电玻璃表面的SiO2纳米腔阵列组成。本发明利用SiO2纳米腔阵列电极模拟生物膜离子通道,在不同pH值条件下,介孔SiO2表面荷电性质的差异调控离子在限域环境中的转移。运用SiO2纳米腔阵列电极作为离子通道,能更好的研究离子转移的动力学过程,有助于更好地认识液/液界面离子转移机理,认识生命过程中钾离子和钠离子膜转移机理,对揭示生命奥秘具有重要的意义。 | ||
搜索关键词: | 二氧化硅 纳米 阵列 电极 作为 离子 通道 应用 | ||
【主权项】:
二氧化硅纳米腔阵列电极作为离子通道的应用。
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