[发明专利]一种表面增强拉曼散射基底及其制备方法和应用

摘要

本发明属于激光拉曼检测技术领域，公开了一种表面增强拉曼散射基底及其制备方法和应用。该基底的表面覆盖有有序刻蚀银纳米线膜，该有序刻蚀银纳米线薄膜是由相互平行的刻蚀银纳米线有序排列而成，刻蚀银纳米线之间的平均间距0‑15nm，单根刻蚀银纳米线表面的粗糙度在0‑20nm。制备方法是利用化学方法在银纳米线表面进行刻蚀，再将这种刻蚀银纳米线通过三相界面法进行自组装，然后转移到基底表面。该方法不仅具有方法简单、成本低廉、易于实现等优点。将该基底用于SERS检测，具有较高的检测灵敏度，用罗丹明B为探针分子时最低检测限可达10^‑11M，在食品、环境、医疗、生物等领域有广泛的潜在应用前景。

主权项

1.一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)通过刻蚀剂对银纳米线表面刻蚀处理，形成刻蚀银纳米线溶胶；(2)通过界面自组装法在三相界面处形成有序刻蚀银纳米线薄膜，具体按照以下步骤：在一广口玻璃器皿中，将步骤(1)所得刻蚀银纳米线溶胶加入到油相溶液的表面，在互不相溶的两液体及空气三相之间形成接触面，然后在刻蚀银纳米线溶胶表面加入第三种溶剂在油水界面处形成的取向银纳米线逐渐从油水界面向水气界面迁移最终在水气界面上形成取向银纳米线薄膜；(3)将界面上自组装的有序刻蚀银纳米线膜转移到基底表面，形成表面增强拉曼散射基底；该基底的表面覆盖有有序刻蚀银纳米线薄膜，该有序刻蚀银纳米线膜是由相互平行的刻蚀银纳米线有序排列而成，刻蚀银纳米线之间的平均间距0‑15nm，单根刻蚀银纳米线表面的粗糙度在0‑20nm。