[发明专利]压电陶瓷溅射靶材、无铅压电薄膜以及压电薄膜元件有效
| 申请号： | 201710195606.9 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN107235724B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 东智久;七尾胜;石井健太 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/187 | 分类号： | H01L41/187;C04B35/495;C04B35/48;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦;沈娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明的目的在于提供一种在无铅压电薄膜的制造中可以充分地抑制成为缺陷的主要因素的微粒的产生的压电陶瓷溅射靶材。所述压电陶瓷溅射靶材其特征在于，所述压电陶瓷溅射靶材以化学式(I)：ABO |
||
| 搜索关键词： | 压电 陶瓷 溅射 薄膜 以及 元件 | ||
【主权项】：
一种压电陶瓷溅射靶材，其特征在于，所述压电陶瓷溅射靶材以化学式(I)：ABO3所表示的钙钛矿型氧化物为主成分，所述化学式(I)的A成分至少含有K(钾)和/或Na(钠)，所述化学式(I)的B成分至少含有Nb(铌)，所述压电陶瓷溅射靶材由多个晶粒构成，所述晶粒的平均粒径大于3μm且为30μm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社，未经TDK株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710195606.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：压电陶瓷溅射靶材、无铅压电薄膜及压电薄膜元件
- 下一篇：石墨及其制造方法
