[发明专利]具有射频供电的法拉第屏蔽件的包括线圈的衬底处理系统在审
| 申请号： | 201710193556.0 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN107240542A | 公开（公告）日： | 2017-10-10 |
| 发明（设计）人： | 沈彭;塔马拉卡·潘达姆所朴恩;安东尼·纽伦;丹·玛罗尔 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所31263 | 代理人： | 李献忠,邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及具有射频供电的法拉第屏蔽件的包括线圈的衬底处理系统。衬底处理系统包括处理室，该处理室包括电介质窗和布置在其中以支撑衬底的衬底支撑件。线圈被布置在处理室的外部与电介质窗相邻。法拉第屏蔽件布置在线圈和电介质窗之间。RF发生器被配置为向线圈提供RF功率。法拉第屏蔽件通过杂散电容耦合和/或直接耦合到线圈。电容器连接到线圈和法拉第屏蔽件中的一个，以调节沿着线圈的电压驻波的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 射频 供电 法拉第 屏蔽 包括 线圈 衬底 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种衬底处理系统，其包括：处理室，其包括电介质窗和布置在其中以支撑衬底的衬底支撑件；线圈，其布置在所述处理室的外部与所述电介质窗相邻；法拉第屏蔽件，其布置在所述线圈和所述电介质窗之间；以及RF发生器，其被配置为向所述线圈提供RF功率。
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