[发明专利]阵列基板及其制备方法和应用

摘要

本发明提出了阵列基板及其制备方法和应用。该制备阵列基板的方法包括：在衬底基板上形成钝化层；在钝化层远离衬底的一侧形成光刻胶层，并对光刻胶层进行构图工艺形成具有开口图案的光掩膜；对开口图案对应的钝化层区域进行离子注入；刻蚀开口图案对应的钝化层区域，形成贯穿所述钝化层的过孔；剥离光掩膜。本发明所提出的制备方法，通过预先注入离子，使得钝化层刻蚀过程中凹槽的两侧侧壁和底壁形成一层薄薄的保护膜，由于底壁的保护膜相较于两侧壁的更容易被刻蚀掉，从而使垂直方向的刻蚀速度快于侧向的刻蚀速度，从而可有效控制钝化层刻蚀方向，能有效地解决底切不良现象所带来的阵列基板制作良品率降低的问题。

主权项

1.一种制备阵列基板的方法，其特征在于，包括：/n在衬底基板上形成钝化层；/n在所述钝化层远离所述衬底的一侧形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行构图工艺形成具有开口图案的光掩膜；/n对所述开口图案对应的钝化层区域进行离子注入，且所述注入的离子为铝离子；/n刻蚀所述开口图案对应的钝化层区域，形成贯穿所述钝化层的过孔，且所述刻蚀采用的气体为SF₆和CF₄中的至少一种以及O₂；/n剥离所述光掩膜。/n