[发明专利]铟氧化膜及钼膜用蚀刻组合物有效
| 申请号： | 201710157742.9 | 申请日： | 2017-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN107227461B | 公开（公告）日： | 2019-10-29 |
| 发明（设计）人： | 郑敬燮;朴镛云 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻组合物，其作为铟氧化膜、钼膜、或铟氧化膜与钼膜的多层膜用蚀刻组合物，包含硝酸、环状胺化合物、含氟化合物和有机酸，且相对于组合物的总重量以0.1～5.0重量％的量包含上述有机酸。本发明的蚀刻组合物对于用作液晶显示装置用阵列基板的像素电极的铟氧化膜及钼膜的蚀刻性能优异，能够将对于下部金属的损伤最小化，且能够在蚀刻多层膜时抑制上部尖端产生，从而能够提高液晶显示装置的驱动特性。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 钼膜用 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻组合物，其作为铟氧化膜与钼膜的多层膜用蚀刻组合物，相对于组合物总重量，包含硝酸3～30重量％、环状胺化合物0.1～10重量％、含氟化合物0.01～5.0重量％及酒石酸0.1～5.0重量％，并且包含余量的水以使组合物的总重量为100重量％。
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