[发明专利]一种铁电薄膜微区形貌修饰和图形化的方法

摘要

本发明公开了一种铁电薄膜微区形貌修饰和图形化的方法，属于铁电薄膜刻蚀技术领域，其包括以下步骤：1)配制铁电薄膜的前驱溶液；2)在所述铁电薄膜的表层上镀有顶电极，并依次进行涂胶、前烘、曝光、显影和后烘；3)对所述铁电薄膜进行离子束刻蚀，刻蚀完后，去除所述光刻胶图形固化膜，即获得样品；4)用表面轮廓分析仪对所述样品的刻蚀台阶深度进行测量，并计算出铁电薄膜的刻蚀参数；所述前驱溶液浓度为0.1～0.5mol/L，所述铁电薄膜厚度为170～220nm。本发明提供一种制备工艺简单、铁电性良好且适用于一类铁电薄膜的微区形貌修饰和图形化的方法。

主权项

1.一种铁电薄膜微区形貌修饰和图形化的方法，其特征在于：包括以下步骤：1)将铁电薄膜的前驱溶液旋涂在基片上，随后置于退火炉中进行烘干、热解，重复上述过程多次后退火即获得铁电薄膜；所述铁电薄膜简写为XYT，XYT的晶体为钙钛矿结构，T为Ti或Ta；2)在所述铁电薄膜的表层上镀顶电极，并依次进行涂胶、前烘、曝光、显影和后烘，制备出光刻胶图形固化膜，作为铁电薄膜的刻蚀保护层；3)对所述铁电薄膜进行离子束刻蚀，刻蚀完后，去除所述光刻胶图形固化膜，即获得样品；在离子束刻蚀中，氩气流量值为6～8sccm、氩离子束的入射角度为45°～50°、屏级电压值为750～850V；4)用表面轮廓分析仪对所述样品的刻蚀台阶深度进行测量，并计算出铁电薄膜的刻蚀参数；所述前驱溶液浓度为0.1～0.5mol/L，所述铁电薄膜中Y与T的物质的量比为0.3：0.7～0.7：0.3，所述铁电薄膜厚度为170～220nm。