[发明专利]一种太阳能电池片制备方法有效
申请号: | 201710111365.5 | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN108511539B | 公开(公告)日: | 2020-02-04 |
发明(设计)人: | 谭伟华;何龙;姜占锋;孙翔;周云坛;滕美玲 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种太阳能电池片制备方法。该太阳能电池片的表面具有电池片孔洞,所述电池片孔洞的开口宽度为400~1000nm,所述电池片孔洞的深度为100~400nm。光电转换效率高、外观无明显晶花、能大规模实际生产。 | ||
搜索关键词: | 孔洞 电池片 太阳能电池片 光电转换效率 制备 开口 生产 | ||
【主权项】:
1.一种太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤包括:在硅基体表面开设开口宽度为500~1200nm、深度为200~500nm的基体孔洞,后经过扩散、附着减反射膜制得太阳能电池片;/n步骤包括:S11,沉积金属粒子:将硅基体置于含金属离子的盐及氢氟酸的混合液中沉积金属粒子;/nS21,开微纳米孔:将步骤S11所得硅基体置于含氢氟酸及双氧水的刻蚀液中刻蚀;所述刻蚀液中双氧水的体积:氢氟酸的体积:水的体积=(2~5):1:(5~8);步骤S21中所述双氧水的质量浓度为30~32%;所述氢氟酸的质量浓度为49~50%;/nS31,削扩微纳米孔:将步骤S21所得硅基体置于含硝酸及氢氟酸的混合酸液中,所述混合酸液中硝酸的体积:氢氟酸的体积:水的体积=(5.0~9.0):1:(7~10);步骤S31中所述硝酸的质量浓度为65~68%;所述氢氟酸的质量浓度为49~50%;/nS41、除多孔硅及微纳米孔修正:将步骤S31所得硅基体置于碱液中去除多孔硅层及对微纳米孔进行修正;/nS51、去除金属粒子;/nS61、扩散;/nS71、镀减反射膜;/nS81、制备太阳能电池电极;/n制得太阳能电池片。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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