[发明专利]表面构造测量装置和方法有效
| 申请号： | 201710102540.4 | 申请日： | 2017-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN107121085B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 酒井裕志;伊藤彻也;本桥研 | 申请（专利权）人： | 株式会社三丰 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 曲莹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面构造测量装置和方法，该装置包括：测量传感器，该测量传感器在可测物体的圆筒部分的内壁被沿圆筒部分的周向划分出的每个测量区域处沿内壁的法向位移，与此同时以非接触的方式测量所述内壁的表面构造；W轴位移器，该W轴位移器使测量传感器沿W轴方向位移；θ轴位移器，该θ轴位移器在第一测量区域的表面构造测量完成后使测量传感器沿周向位移，从而使测量传感器面向在周向上与第一测量区域相邻的第二测量区域；以及控制器，该控制器在使测量传感器沿W轴方向位移的同时调整W轴方向的测量位置，以测量第二测量区域的表面构造。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 构造 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种表面构造测量装置，包括：测量传感器，配置为在可测物体的圆筒部分的内壁被沿圆筒部分的周向划分出的每个测量区域处沿内壁的法向位移，与此同时以非接触的方式测量所述内壁的表面构造；法向位移器，配置为使测量传感器沿法向位移，从而测量传感器测量第一测量区域的表面构造；周向位移器，配置为在第一测量区域的表面构造测量完成后使测量传感器沿周向位移，从而使测量传感器面向在周向上与第一测量区域相邻的第二测量区域；和控制器，配置为在使测量传感器沿法向位移的同时调整法向测量位置，以测量第二测量区域的表面构造，所述控制器进一步配置为基于第一测量区域的表面构造的测量结果调整测量位置。
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