[发明专利]腔室及外延生长设备有效
| 申请号： | 201710071008.0 | 申请日： | 2017-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN108411362B | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 涂冶 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/10 | 分类号： | C30B25/10;C23C16/48 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种腔室及外延生长设备，该腔室包括石英腔体、设置在该石英腔体内用于承载被加工工件的基座、以及热源，该热源设置在石英腔体的外部，用以透过石英腔体朝向基座辐射热量，基座采用石英制作。本发明提供的腔室，其不仅可以减少热量损耗，提高工艺升温/降温速率，而且可以避免基座附着有残留物的情况，延长了基座的更换周期，从而降低了运行成本和设备成本。本发明提供的外延生长设备包括本发明的腔室，其不仅可以减少热量损耗，提高工艺升温/降温速率，而且可以避免基座附着有残留物的情况，延长了基座的更换周期，从而降低了运行成本和设备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 生长 设备 | ||
【主权项】：
1.一种腔室，其特征在于，包括石英腔体、设置在所述石英腔体内用于承载被加工工件的基座、以及热源；其中，所述热源设置在所述石英腔体的外部，用以透过所述石英腔体朝向所述基座辐射热量；所述基座采用石英制作。
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