[发明专利]原子室及其制法、干涉装置、振荡器、电子设备及移动体有效
| 申请号： | 201710068565.7 | 申请日： | 2017-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN107104667B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 林畅仁;宫川拓也;石原直树;牧义之 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H03L7/26 | 分类号： | H03L7/26 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及原子室及其制造方法、量子干涉装置、原子振荡器、电子设备以及移动体。课题：提供一种能够具有高耐热性的原子室。解决手段：一种原子室，其为在内部填充碱金属的原子室，其包含：由包含具有极性基团的化合物的材料形成的内壁；涂布于上述内壁的、由具有与上述极性基团发生消除反应的官能团和非极性基团的第1分子形成的第1涂层；以及涂布于上述第1涂层的、由非极性的第2分子形成的第2涂层，上述第2分子为聚丙烯、聚乙烯或聚甲基戊烯。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 及其 制法 干涉 装置 振荡器 电子设备 移动 | ||
【主权项】：
一种原子室，其为在内部填充碱金属的原子室，所述在内部填充碱金属的原子室包含：由包含具有极性基团的化合物的材料形成的内壁；涂布于所述内壁的、由具有与所述极性基团发生消除反应的官能团和非极性基团的第1分子形成的第1涂层；以及涂布于所述第1涂层的、由非极性的第2分子形成的第2涂层，所述第2分子为聚丙烯、聚乙烯或聚甲基戊烯。
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