[发明专利]一种应用相变材料作为隧穿层的自旋电子器件有效

专利信息
申请号: 201710047209.7 申请日: 2017-01-22
公开(公告)号: CN106816529B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 林晓阳;郭思德;赵巍胜;张有光 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 代理人: 王顺荣;唐爱华
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种应用相变材料作为隧穿层的自旋电子器件,具体为一种非局域自旋注入器件,其最下端为自旋沟道,所述自旋沟道上方的外侧两端各沉积一普通金属电极,自旋沟道上方中部沉积两个隧穿层,并在隧穿层上各沉积一个铁磁金属电极;其特征在于:所述的隧穿层为能够在温度和光照驱动下发生相变的材料;且该器件进一步包括有温度控制模块或光照控制模块。本发明提出的相变隧穿层(如二氧化钒),可以用温度和光照控制电阻。隧穿电阻可以被人为调控在合适区间内,从而提高了自旋电子器件的性能。
搜索关键词: 一种 应用 相变 材料 作为 隧穿层 自旋 电子器件
【主权项】:
1.一种应用相变材料作为隧穿层的自旋电子器件,具体为一种非局域自旋注入器件,其最下端为自旋沟道,所述自旋沟道上方的外侧两端各沉积一普通金属电极,自旋沟道上方中部沉积两个隧穿层,并在隧穿层上各沉积一个铁磁金属电极;其特征在于:所述的隧穿层为能够在温度和光照驱动下发生相变的材料;且该器件进一步包括有温度控制模块或光照控制模块,通过控制温度或外加光照,驱动隧穿层的相变,进而调控隧穿层的阻值,最终实现自旋电子器件性能的调控;所述隧穿层包括二氧化钒(VO2)。
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