[发明专利]获得具有提高的周期的包含嵌段共聚物的厚有序膜的方法在审
| 申请号： | 201680073926.0 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN108369373A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | C.纳瓦罗;C.尼科莱;X.舍瓦利耶 | 申请（专利权）人： | 阿科玛法国公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;C08L53/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 詹承斌 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 获得具有提高的周期的包含嵌段共聚物的厚有序膜的方法。本发明涉及一种获得沉积在表面上的具有提高的在纳米尺度上的周期(典型地>10nm)的包含嵌段共聚物(BCP)的组合物的厚有序膜(典型地>20nm)而不降低其他关键结构化参数(动力学、结构化缺陷、临界尺寸均匀性)的方法，无论取向如何(垂直于基底，平行于基底等)；该组合物具有在0.5和40之间的χ有效*N的乘积(其中χ有效＝所考虑的两个嵌段之间的弗洛里哈金斯参数，且N为这两个嵌段的总聚合度)。 | ||
| 搜索关键词： | 嵌段共聚物 基底 嵌段 临界尺寸均匀性 关键结构 纳米尺度 动力学 结构化 聚合度 取向 沉积 平行 垂直 | ||
【主权项】：
1.使得可获得在表面上具有大于20nm的厚度且具有大于10nm的周期的包含二嵌段共聚物的组合物的有序膜的方法，且包括以下步骤：–将包含嵌段共聚物的组合物在溶剂中混合，一旦溶剂已被蒸发掉，该组合物即在结构化温度下呈现出在10.5和40之间的χ有效*N的乘积，–将该混合物沉积在表面上，–在嵌段共聚物的最高Tg和它们的分解温度之间的温度下使沉积在表面上的混合物固化，使得在溶剂蒸发后组合物可使自身结构化。
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