[发明专利]用于基于模型的临界尺寸测量的技术及系统

摘要

利用成像系统检验光罩，以获得在所述光罩上的结构的经测量图像，且所述结构具有未知临界尺寸CD。使用模型、使用描述用于在所述光罩上形成所述结构的图案的设计数据库来产生经计算图像。所述模型基于以下项产生所述经计算图像：所述结构的光罩材料的光学性质、所述成像系统的计算模型及可调整CD。通过调整所述可调整CD且迭代地重复产生经计算图像的所述操作而最小化所述经测量图像与所述经计算图像之间的差值的范数，以针对所述结构的所述未知CD获得最终CD。对所述可调整CD及所述成像系统的一或多个不确定参数同时执行最小化所述差值的所述范数。

主权项

一种测量光罩上的临界尺寸偏差的方法，所述方法包括：利用成像系统检验所述光罩以获得在所述光罩上的结构的经测量图像，其中所述结构具有未知临界尺寸值；使用模型、使用描述用于在获得所述经测量图像的所述光罩上形成所述结构的图案的设计数据库来产生经计算图像，其中所述模型基于以下项产生所述经计算图像：对应于所述结构的光罩材料的光学性质、所述成像系统的计算模型及可调整临界尺寸；通过调整所述可调整临界尺寸且迭代地重复产生经计算图像的所述操作而最小化所述经测量图像与所述经计算图像之间的差值的范数以导致最终模型临界尺寸，其中对所述可调整临界尺寸及所述成像系统的一或多个不确定参数同时执行最小化所述差值的所述范数；及将所述未知临界尺寸值定义为导致所述差值的所述范数的最小化的所述最终临界尺寸。