[发明专利]用于形成自修复涂层的组合物、涂层和涂膜有效
| 申请号： | 201680003615.7 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN107075275B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 金永锡;李汉娜;张影来 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | C09D4/02 | 分类号： | C09D4/02;C09D175/02;C09D175/04 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李静;黄丽娟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于形成具有自修复特性的涂层的组合物、由该组合物制备的涂膜、包含该涂膜的涂布膜以及包含所述涂膜的家用电器和显示器件，所述组合物包含：含有包含一个或多个位阻(硫)脲键的(硫)脲官能团和连接至所述(硫)脲官能团的(甲基)丙烯酸酯类或乙烯基类官能团的可逆共价化合物；光引发剂；以及有机溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 修复 涂层 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成自修复涂层的组合物，包含：含有包含一个或多个位阻(硫)脲键的(硫)脲官能团和连接至所述(硫)脲官能团的(甲基)丙烯酸酯类或乙烯基类官能团的可逆共价化合物；(甲基)丙烯酸酯类官能团或乙烯基类官能团通过包含位阻脲键的(硫)脲官能团连接的无机化合物；光引发剂；以及有机溶剂，其中，所述(甲基)丙烯酸酯类官能团或乙烯基类官能团通过包含位阻脲键的(硫)脲官能团连接的无机化合物包括下面化学式2的化合物：[化学式2]![]()
在上述化学式2中，X是氧或硫；L和Y分别是直接键、C1‑C30直链或支链亚烷基、C2‑C30直链或支链亚烯基、C4‑C30环亚烷基或者C6‑C30亚芳基；Z是(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基；R1是选自C2‑C30直链或支链烷基、C2‑C30直链或支链烯基、C4‑C30环烷基、C6‑C30芳基、杂烷基、环杂烷基和杂芳基的大体积基团；R2是C1‑C10直链或支链烷基，或C1‑C10直链或支链烷氧基；p是1至4的整数，p+q是4。
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