[实用新型]一种蒸镀坩埚有效

专利信息
申请号: 201621198219.8 申请日: 2016-11-04
公开(公告)号: CN206337305U 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 何瑞亭;李晓康 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种蒸镀坩埚,涉及显示技术领域,可缩短疏通堵塞喷嘴的时间,提高生产效率。所述蒸镀坩埚包括坩埚本体和坩埚盖,所述坩埚盖上设置有至少一个喷嘴;还包括与所述喷嘴一一对应的疏通结构,所述疏通结构包括穿过坩埚本体底部伸向坩埚本体内部的移动杆;所述移动杆位于所述坩埚本体内部的一端可穿过所述喷嘴。
搜索关键词: 一种 坩埚
【主权项】:
一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体和坩埚盖,所述坩埚盖上设置有至少一个喷嘴;其特征在于,还包括与所述喷嘴一一对应的疏通结构,所述疏通结构包括穿过坩埚本体底部伸向坩埚本体内部的移动杆;所述移动杆位于所述坩埚本体内部的一端可穿过所述喷嘴。
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