[实用新型]真空灭弧室的陶瓷外壳及真空灭弧室有效
| 申请号： | 201620690185.8 | 申请日： | 2016-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN205789698U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 陈进 | 申请（专利权）人： | 成都凯赛尔电子有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664;H01H33/662 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610500 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种真空灭弧室的陶瓷外壳，包括：呈圆筒状的壳体；以及设置于所述壳体的外圆面的沿该外圆面周向延伸的呈环状的多个凹槽；所述多个凹槽沿所述壳体轴向排列形成波纹结构，该波纹结构的波峰呈凸起的圆弧状，该波纹结构的波谷呈内凹的圆弧状，所述波峰和与该波峰相邻的波谷之间平滑连接；所述波峰的半径小于所述波谷的半径。它波峰到波谷的曲线斜度小，釉层的流散性好，且波峰和与该波峰相邻的波谷之间平滑连接，釉层堆积减少，喷釉次数减少，烧成后无釉泡，能简化加工流程。本实用新型还公开一种真空灭弧室。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 灭弧室 陶瓷 外壳 | ||
【主权项】：
一种真空灭弧室的陶瓷外壳，其特征在于，包括：呈圆筒状的壳体；以及设置于所述壳体的外圆面的沿该外圆面周向延伸的呈环状的多个凹槽；其中，所述多个凹槽沿所述壳体轴向排列形成波纹结构，该波纹结构的波峰呈凸起的圆弧状，该波纹结构的波谷呈内凹的圆弧状，所述波峰和与该波峰相邻的波谷之间平滑连接；所述波峰的半径小于所述波谷的半径。
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