[实用新型]一种蒸镀设备有效
| 申请号： | 201620470106.2 | 申请日： | 2016-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN205590782U | 公开（公告）日： | 2016-09-21 |
| 发明（设计）人： | 高昕伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其中，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。所述蒸镀设备通过设置基片固定机构，使膜厚监控基片与待蒸镀基板均位于蒸发源的有效蒸镀区域内，当完成待蒸镀基板的一次镀膜时，监测膜厚监控基片上的膜厚，即能够达到监控蒸镀过程中的膜层厚度的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 设备 | ||
【主权项】：
一种蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其特征在于，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。
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