[实用新型]一种基于绝缘介质空气槽的表面等离子激元纳米激光器有效
| 申请号： | 201620351784.7 | 申请日： | 2016-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN205646433U | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 李芳;魏来;周剑心 | 申请（专利权）人： | 武汉工程大学 |
| 主分类号： | H01S5/10 | 分类号： | H01S5/10;G02B5/00 |
| 代理公司： | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人： | 房德权 |
| 地址： | 430205 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种基于绝缘介质空气槽的表面等离子激元纳米激光器，包括：基底层、增益介质腔体、金属薄膜层及绝缘介质层；增益介质腔体与基底层上表面接触。金属薄膜层设置在增益介质腔体的两侧；金属薄膜层与基底层的上表面接触。绝缘介质层设置在增益介质腔体与金属薄膜层之间；绝缘介质层的中部开设有纵向通孔，进而形成间隙区；增益介质腔体的两侧位于间隙区。该表面等离子激元纳米激光器能合理平衡能量损耗与局域模限制，方便制造，尺寸更小，阈值更小，综合性能更优。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 绝缘 介质 空气 表面 等离子 纳米 激光器 | ||
【主权项】：
一种基于绝缘介质空气槽的表面等离子激元纳米激光器，其特征在于，所述表面等离子激元纳米激光器包括：基底层；与所述基底层上表面接触的增益介质腔体；设置在所述增益介质腔体两侧的金属薄膜层；所述金属薄膜层与所述基底层的上表面接触；设置在所述增益介质腔体与所述金属薄膜层之间的绝缘介质层；所述绝缘介质层的中部开设有纵向通孔，进而形成间隙区；所述增益介质腔体的两侧位于所述间隙区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉工程大学，未经武汉工程大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620351784.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
