[实用新型]光学斩波器和光调制系统有效

专利信息
申请号: 201620320220.7 申请日: 2016-04-15
公开(公告)号: CN205620605U 公开(公告)日: 2016-10-05
发明(设计)人: 吕望;罗娇林;张琳琅;李兵;李义;余思 申请(专利权)人: 上海瑞柯恩激光技术有限公司
主分类号: G02B26/04 分类号: G02B26/04;G02B26/08
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高静;吴敏
地址: 201203 上海市浦东新区张江高*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光学斩波器和光调制系统,其中光学斩波器包括:固定件,固定件具有周面;多个凸起,位于周面上呈间隔排布,凸起具有朝向光线入射方向的第一表面;反射层,覆盖凸起的第一表面。本实用新型技术方案在位于固定件周面上的多个凸起表面设置反射层。本实用新型利用反射原理,在进行光调制时,凸起表面的反射层将大部分光能反射,能够有效减少凸起吸收的能量。在大功率光照条件下,凸起吸收能量的减少,能够有效保护凸起不被烧坏,从而减少光学斩波器受损现象的出现。
搜索关键词: 光学 斩波器 调制 系统
【主权项】:
一种光学斩波器,其特征在于,包括:固定件,所述固定件具有周面;多个凸起,位于所述周面上呈间隔排布,所述凸起具有朝向光线入射方向的第一表面;反射层,覆盖所述凸起的第一表面。
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