[实用新型]一种刻蚀设备

摘要

本实用新型提供一种刻蚀设备，涉及显示器件制备领域，在喷淋刻蚀过程中，刻蚀液能够对光刻胶边缘所覆盖的薄膜层进行刻蚀。该刻蚀设备包括刻蚀腔，刻蚀腔内设置有工作台和刻蚀液喷头，工作台用于承载待刻蚀基板，待刻蚀基板包括依次覆盖衬底基板的薄膜层和光刻胶，刻蚀液喷头可向所述待刻蚀基板上喷淋刻蚀液。工作台连接有振动机构，用于驱动所述工作台振动，以使得上述待刻蚀基板上的刻蚀液与光刻胶边缘覆盖的薄膜层相接触。该刻蚀设备用于对待刻蚀基板进行刻蚀。

主权项

一种刻蚀设备，其特征在于，包括刻蚀腔，所述刻蚀腔内设置有工作台和刻蚀液喷头，所述工作台用于承载待刻蚀基板，所述待刻蚀基板包括依次覆盖衬底基板的薄膜层和光刻胶，所述刻蚀液喷头可向所述待刻蚀基板上喷淋刻蚀液；所述工作台连接有振动机构，用于驱动所述工作台振动，以使得所述待刻蚀基板上的刻蚀液与所述光刻胶边缘覆盖的薄膜层相接触。