[实用新型]一种基于脉冲气流生长二硫化钼薄膜的化学气相沉积设备

摘要

本实用新型公开了一种基于脉冲气流生长二硫化钼薄膜的化学气相沉积设备，其特征在于：所述设备包括支撑台、石英管、一号管式加热炉膛、二号管式加热炉膛、恒温鼓泡瓶、进气系统以及尾气系统；所述石英管通过支撑机构固定在支撑台上，所述一号管式加热炉膛和二号管式加热炉膛通过滑轨沿石英管外径径向滑动；所述石英管两端分别设为进气端和出气端，所述进气端和出气端均设有密封法兰；所述进气端通过密封法兰连接进气系统和恒温鼓泡瓶，所述出气端通过密封法兰连接尾气系统。采用本实用新型所述的化学气相沉积设备能够获得高质量大尺寸的层状二硫化钼薄膜，为制备TMDs光电器件打下坚实基础。

主权项

一种基于脉冲气流生长二硫化钼薄膜的化学气相沉积设备，其特征在于：所述设备包括支撑台、石英管、一号管式加热炉膛、二号管式加热炉膛、恒温鼓泡瓶、进气系统以及尾气系统；所述石英管通过支撑机构固定在支撑台上，所述一号管式加热炉膛和二号管式加热炉膛通过滑轨沿石英管外径径向滑动；所述石英管两端分别设为进气端和出气端，所述进气端和出气端均设有密封法兰；所述进气端通过密封法兰连接进气系统和恒温鼓泡瓶，所述出气端通过密封法兰连接尾气系统。