[实用新型]一种基板支撑结构及镀膜设备有效
申请号: | 201620161379.9 | 申请日: | 2016-03-02 |
公开(公告)号: | CN205398724U | 公开(公告)日: | 2016-07-27 |
发明(设计)人: | 胡毓龙;董杰;金哲山;杨晓东;周东淇;高欢;孙志强;王婷婷 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种基板支撑结构及镀膜设备,涉及镀膜设备技术领域,在保证产品品质的基础上可解决现有技术中基板支撑结构使用寿命缩短的问题。该基板支撑结构包括支撑平台和固定部,支撑平台内设有凹槽和通孔,通孔内设有支撑杆,支撑杆的底端可与固定部抵靠,支撑杆的顶部设有支撑帽,支撑帽可位于凹槽内,支撑帽的上表面到支撑杆底端的距离大于支撑平台的厚度,支撑帽的下表面与凹槽的底面相对,支撑平台可上下移动,支撑帽的下表面与凹槽的底面之间设有隔垫部,隔垫部与支撑杆固定,隔垫部的硬度大于支撑帽的硬度,支撑帽的上表面到隔垫部下表面的距离等于凹槽的深度,隔垫部可使支撑帽与凹槽的内表面分离。本实用新型用于支撑基板。 | ||
搜索关键词: | 一种 支撑 结构 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种基板支撑结构,包括支撑平台和设于所述支撑平台下方的固定部,所述支撑平台的上表面设有凹槽,所述支撑平台内设有贯穿所述凹槽底面和所述支撑平台下表面的通孔,所述通孔内设有支撑杆,所述支撑杆的底端可与所述固定部抵靠,所述支撑杆的顶部设有支撑帽,所述支撑帽可位于所述凹槽内,所述支撑帽的上表面到所述支撑杆底端的距离大于所述支撑平台的厚度,所述支撑帽的下表面与所述凹槽的底面相对,所述支撑平台连接有驱动装置,所述驱动装置可驱动所述支撑平台上下移动,其特征在于,所述支撑帽的下表面与所述凹槽的底面之间设有隔垫部,所述隔垫部与所述支撑杆固定,所述隔垫部的硬度大于所述支撑帽的硬度,所述支撑帽的上表面到所述隔垫部下表面的距离等于所述凹槽的深度,所述隔垫部可使所述支撑帽与所述凹槽的内表面分离。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的