[发明专利]一种多孔氧化铝膜层及其制备方法在审
| 申请号： | 201611243729.7 | 申请日： | 2016-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108251877A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 李帅;张超;吕琴丽;何迪;张华;王树茂;刘晓鹏;蒋利军 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C25D11/12 | 分类号： | C25D11/12;C25D11/08;C25F3/20;C25D11/16 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多孔氧化铝膜层及其制备方法。该多孔氧化铝膜层的孔径范围为5‑100nm，厚度为5‑100μm。其制备方法包括以下步骤：(1)采用物理气相沉积方法在多孔金属基材表面沉积铝膜；(2)对铝膜进行气氛退火处理；(3)对退火后的铝膜进行表面清洗和电化学抛光；(4)利用阳极氧化法对铝膜进行处理，获得多孔氧化铝膜。采用本发明的方法制备的多孔氧化铝膜层具有膜层孔径可控的特点，膜层内具有规则有序分布的垂直纳米通孔。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔氧化铝膜 铝膜 制备 膜层 退火 多孔金属基材 物理气相沉积 电化学抛光 阳极氧化法 表面沉积 表面清洗 退火处理 可控的 通孔 垂直 | ||
【主权项】：
1.一种多孔氧化铝膜层，其特征在于，该多孔氧化铝膜层的孔径范围为5‑100nm，厚度为5‑100μm。
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